Le profil de l’Exposition espérée (EE) de la position détenue face à une contrepartie est estimé par un processus de simulation Monte Carlo. La méthode consiste à simuler une multitude de scénarios d’évolution des différents paramètres de marchés et de calculer, pour chaque scénario, les expositions futures en résultant. L’ensemble des scénarios simulés permet de déterminer une distribution de probabilité de l’exposition pour les différentes dates futures. Le profil de l’exposition EE n’est autre que la courbe obtenue en moyennant pour chaque date les expositions simulées (voir Schéma).
L’exposition EEE s’obtient à partir de la courbe EE en lui imposant une forme croissante dans le temps afin de prendre en compte le « rollover risk », autrement dit le risque de sous-estimer l’exposition future en n’incluant pas dans le calcul de l’exposition espérée les transactions faisant partie d’une production permanente entre les deux parties.
L’exposition EEPE est obtenue en moyennant l’EEE sur une période donnée.
